経産省未来開拓研究プロジェクト(平成24-25年度)NEDOプロジェクト(平成26-33年度)有機ケイ素機能性化学品 製造プロセス技術開発(ケイ素プロジェクト)

分子量や末端構造が制御されたポリシロキサンの簡便な合成法を開発 -高分子の構造制御による高機能・高性能シリコーン材料創出の鍵に-

国立研究開発法人 産業技術総合研究所 触媒化学融合研究センター ヘテロ原子化学チーム 渕瀨 啓太 産総研特別研究員、五十嵐 正安 主任研究員、同研究センター フロー化学チーム 島田 茂 研究チーム長、佐藤 一彦 研究センター長は、国立研究開発法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構 (NEDO) のプロジェクトで、シリコーンなど有機ケイ素材料の主成分となるポリシロキサンの構造を精密制御できる新しい合成技術を開発した。

近年、高い耐熱性などを有する高機能・高性能な有機ケイ素材料が求められており、そのため構造が精密に制御されたポリシロキサンを合成できる技術が必要とされている。今回開発した手法では環状トリシロキサンを原料とし、水を重合開始剤、高い塩基性の有機化合物であるグアニジンを触媒に用いて重合反応を行った。これにより、従来法では合成自体が困難であるか合成操作が煩雑であった、分子量と両末端構造を制御したポリシロキサンを簡便な操作で合成できる。今回開発した技術により、エラストマーやゲルなどの高機能・高性能シリコーン材料の開発が加速されると期待される。

この成果の詳細は、2018 年 (平成 30 年) 2 月 19 日(現地時間)に王立化学会(英国)が発行する学術誌 “Chemical Science” に掲載される。(DOI: 10.1039/c7sc04234e)

ポリシロキサンの分子量と末端構造を同時に制御できる簡便な新規合成技術

詳細につきましては、以下のリンクよりご覧いただけます。

プレスリリース:https://www.aist.go.jp/aist_j/press_release/pr2018/pr20180220/pr20180220.html

論文:http://pubs.rsc.org/en/content/articlelanding/2018/sc/c7sc04234e#!divAbstract
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